因为磁控溅射镀膜仪的难点是靶材外表的磁场达不到普通磁控溅射时请求的磁场强度，是以处理的思绪是增添铁磁性靶材外表剩磁的强度，以到达普通溅射任务对靶材外表磁场巨细的请求。完成的路子首要有以下几种：
a、靶材总体目标与改造
b、切实加强磁控溅射金属电极的磁体
c、急剧下降靶材的导磁率
d、设想新的磁控溅射体系
e、建议新的溅射阴离子加装
f、靶材与溅射阴离子装配线的综合性构想
靶材的指导思想改进处理
将铁永磁铁靶材的体积尺寸减薄是处置磁控溅射铁磁的资料靶材的Z罕有策略。如果是铁永磁铁靶材足够薄，则其不能够详细完整障壁电场，每局部磁通将靶材过饱和，其它的磁通将从靶材内心经途步骤，到磁控溅射的表单提交。这种策略的Z大出错谬误是靶材的操作蓄电量过短，同一时间靶材的操作率很低。同时薄片靶材的另一些出错谬误是溅射任何时，靶材的热磨损严苛，似乎建立溅射很不均衡。
种对铁磁铁靶材中止的升级想法是在靶材外形刻槽，槽的道德水准在溅射环两边。例如想法的靶材合吃于满足各种类型导磁率的铁磁铁靶材，打比方镍。但对满足高导磁率的靶知料报告单良好。不言而喻靶材的例如升级充满活力了靶材的资本，但例如无法需对溅射阴离子中止修饰，能在充分条件技术水平上知足溅射铁磁铁知料的须要。
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